半导体X射线检测设备是干什么的
2025-05-29

半导体X射线检测设备是一种基于X射线穿透性原理的工业检测工具专为解决半导体制造中芯片生产和封装过程部分检测“内部缺陷”问题,通过发射X射线源利用不同材料对X射线的吸收差异形成的不同反应图像可以看到芯片内部微米甚至纳米级别状态下的焊点形态、内部连线状态,而且无需拆解即可发现传统肉眼无法识别的细微问题,它是晶圆制造、封装测试等环节的质量管控关键,可以准确地识别内部缺陷、异物、焊接问题或结构异常确保产品的高质量和可靠性。

半导体X射线检测设备 网站.jpg

优势

非破坏性检测:不需要拆解或破坏样品即可完成检测保护了高价值样品的完整性,特别适合贵重或无法拆卸的电子元件(晶圆、封装成品IC、BGA、CSP、失效芯片的全生命周期检测),避免传统检测导致的二次损伤 。

微米级成像精度:高端设备像际诺斯整合的德国设备采用纳米焦点X射线源分辨率达μm级别,适配3nm以下先进制程芯片检测需求。

三维分析:多角度扫描重建样品的三维模型可以定位堆叠芯片层间缺陷。

智能化缺陷识别:集成AI算法自动分类焊点空洞、裂纹等多类缺陷并检出比率,检测效率比人工提升300%,实时成像功能支持生产线在线抽检,大幅度缩短质量反馈周期。 

缺点

设备成本较高: 际诺斯半导体级xray检测设备是针对中高端电子领域的高端设备,初次购置可能对中小企业造成经济负担。  

操作复杂:一般x射线检测设备需要专业人员进行操作和维护,际诺斯配备完全的售后和培训流程,能让您的员工瞬间上手操作。  

辐射安全:xray检测设备的防护等级至关重要,际诺斯采用全铅防包裹防护,可以达到各个国家的安全标准。

检测效率瓶颈:复杂封装器件的3D扫描需要耗费大量时间,批量检测时产能受限,但是际诺斯在线版本可以实现全自动质检。

际诺斯总结

半导体级X射线检测设备基于Xray穿透原理可以以非破坏性的方式检测半导体芯片生产及封装过程中的内部缺陷,成像精度达到微米级别,其中际诺斯设备支持三维分析与AI智能缺陷识别,大幅度提升检测效率,但仍然存在一些问题,而际诺斯设备通过全铅防护、售后培训及在线全自动质检方案优化使用体验。


留言板

姓名*

邮箱

验证码*

电话*

公司*

基本需求*

提交信息即代表同意《隐私政策》